三星:已完成16层混合键合HBM内存验证 整体高度缩减

三星:已完成16层混合键合HBM内存验证整体高度缩减它摒弃了DRAM内存层间添加凸块的繁琐步骤,通过铜对铜的直接连接方式实现层间连接,从而大大提高了工作效率。这种创新不仅显著提升了信号传输速率,更好地满足了AI计算对高带宽的迫切需求,而且有效降低了DRAM层间距,使得HBM模块的整体高度得到显著缩减,进一步提升了其集成度和便携性。尽管混合键合技术的成熟度和应用成本一直是业界关注的焦点,但三星电子通过多元化的策略,积极应对这些挑战。在推进混合键合技术研究与应用的同时,公司还同步开发传统的TC-NCF工艺,以实现技术多样化,降低风险,并增强整体竞争力。据悉,三星设定的目标是将HBM4中的晶圆间隙缩减至7.0微米以内,这将进一步提升HBM4的性能和可靠性,为未来的计算应用奠定坚实基础。业内专家对此表示,三星在16层混合键合堆叠工艺技术方面的突破,无疑将有力推动HBM内存技术的发展,为未来的计算应用提供更为强大的内存支持。...PC版:https://www.cnbeta.com.tw/articles/soft/1426696.htm手机版:https://m.cnbeta.com.tw/view/1426696.htm

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三星电子将于2025年推出新一代HBM4内存三星量产了HBM2E和HBM3,并开发了每秒9.8千兆比特(Gbps)的HBM3E,我们将很快开始向客户提供样品,以丰富HPC/AI生态系统。展望未来,HBM4预计将于2025年推出,目前正在开发针对高热性能进行优化的技术,如非导电膜(NCF)组装和混合铜键合(HCB)。帖子中提供的信息显示,三星已经获得了潜在客户对其HBM3内存工艺的兴趣,其中英伟达(NVIDIA)等公司处于领先地位。随着人工智能(genAI)的发展,对相关硬件的要求达到了新的高度,因此对HBM3等必要组件的需求也迅速增加。英伟达正试图实现供应链的多元化,而三星电子在这方面就派上了用场,因为该公司拥有充足的设备来满足人工智能加速器对DRAM的需求。除了当前一代的进展,三星还计划快速推进下一代HBM4工艺,预计将于2025年亮相。虽然有关内存类型的具体细节不多,但三星透露,HBM4将采用"非导电薄膜"和"混合铜键合",这将有助于提高内存工艺的能效和散热性能。HBM4的确将标志着向下一代人工智能加速器的过渡,为业界的计算能力打开新的大门。三星正在成为一家"与众不同"的供应商,尤其是该公司还在专注于开发芯片封装设备。鉴于该公司成功地赢得了潜在客户的信任,我们有可能看到这家韩国巨头的存储器部门在未来几年重振雄风。...PC版:https://www.cnbeta.com.tw/articles/soft/1389583.htm手机版:https://m.cnbeta.com.tw/view/1389583.htm

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