佳能希望用更便宜的5纳米纳米压印光刻机挑战ASML

佳能希望用更便宜的5纳米纳米压印光刻机挑战ASML"我们希望在今年或明年......趁着市场热度开始出货。"佳能负责纳米压印光刻技术开发的工业部门负责人竹西宏明（HiroakiTakeishi）说："这是一项非常独特的技术，它将使尖端芯片的生产变得简单而低成本。纳米压印光刻机的半导体节点宽度为5纳米，目标是最终达到2纳米。"Takeishi说，这项技术主要解决了以前的缺陷率问题，但成功与否将取决于能否说服客户将其集成到现有的制造工厂是值得的。有人怀疑佳能是否有能力扰乱由ASML昂贵但复杂的极紫外（EUV）光刻工具引领的市场。然而，如果纳米压印能以更低的成本将产量提高到近90%，它就能开辟出一片天地，尤其是在极紫外光供应难以满足激增的需求的情况下。据称，佳能的纳米压印设备成本仅为ASML设备的40%，而运行功耗却降低了90%。佳能最初专注于用此技术生产3DNAND存储器芯片，而不是复杂的处理器，因此同样需要应对限制对华销售的出口管制。Takeishi表示，佳能将"谨慎关注"制裁风险，但由于可选方案不多。佳能的纳米压印技术经过15年多的研发，如果能成功实现商业化应用，将能改变竞争格局，使新的竞争者能够以更低的成本生产领先的半导体产品。但是，新机器的缺陷率、集成挑战和地缘政治阻力能否让佳能在与芯片制造巨头的竞争中脱颖而出，还有待观察。...PC版：https://www.cnbeta.com.tw/articles/soft/1414931.htm手机版：https://m.cnbeta.com.tw/view/1414931.htm

纳米压印设备可绕过EUV量产5nm！佳能CEO：不能卖到中国，也无法超越EUV

纳米压印设备可绕过EUV量产5nm！佳能CEO：不能卖到中国，也无法超越EUVhttps://www.icsmart.cn/69388/11月6日消息，据彭博社报道，佳能公司正计划将其新的基于“纳米压印”技术的芯片制造设备的价格定为ASML的EUV光刻机的1/10。由于该设备可以用于制造5nm尖端制程芯片，且不是基于光学技术，或将成为中国绕过美国限制来制造尖端制程芯片的可行方案。但是，佳能首席执行官三井藤夫在采访中表示，该设备无法出口到中国。

上海微电子据报成功研制出中国首台28纳米光刻机

上海微电子据报成功研制出中国首台28纳米光刻机统筹上海张江科学城开发建设的张江集团透露，中国半导体装备制造商上海微电子已成功研制出28纳米光刻机。上海张江（集团）有限公司星期二（12月19日）在集团微信公众号“你好张江”发文称：“作为国内唯—一家掌握光刻机技术的企业，上海微电子已成功研制出28nm光刻机。”中国“钛媒体”称，张江集团公布的这一消息，标志着中国最新28纳米前道光刻机研发进展首次被官方披露。张江集团是一家统筹承担张江科学城开发建设、项目引进等重要功能的国有独资公司，隶属于上海市浦东新区政府监管单位。天眼查信息显示，张江集团是上海微电子的第四大股东。消息传出后，张江集团股价飙升了8%。不过，张江集团之后对文章进行了修改，目前的文章中拿掉了关于28纳米的表述：“作为国内唯一一家掌握光刻机技术的企业，上海微电子致力研制先进的光刻机。”上海微电子（SMEE）成立于2002年，是由中国多家产业集团和投资公司共同投资组建的高科技股份有限公司。公司主要致力于半导体装备、泛半导体装备、高端智能装备的开发、设计、制造、销售及技术服务。在美国去年加大力度遏制中国芯片产业发展的背景下，美国商务部将上海微电子列入黑名单。另据彭博社报道，虽然28纳米芯片于2011年首次问世，但上海微电子的最新成果意味着中国可能已将与该领域领先者的差距缩小了几年。此前，中国自己的光刻技术落后荷兰公司约20年。尽管现在的光刻技术更加成熟，28纳米芯片对于智能手机和电动汽车等众多产品仍然至关重要。2023年12月20日3:55PM