三星推出用于人工智能的“迄今为止最高容量”的新型 HBM 存储芯片

三星推出用于人工智能的“迄今为止最高容量”的新型HBM存储芯片三星电子周二表示,它已经开发出一种新型高带宽存储芯片,具有业界“迄今为止最高容量”。三星称HBM3E12H“将性能和容量提高了50%以上”。三星表示,已开始向客户提供芯片样品,并计划于2024年上半年量产。它将确保已经与三星签约的Nvidia在基于更高层(12L)的更高密度(36GB)HBM3E产品方面的领先地位。三星表示,HBM3E12H具有12层堆叠,但采用先进的热压非导电薄膜,使12层产品具有与8层产品相同的高度规格,以满足当前的HBM封装要求。其结果是芯片具有更强的处理能力,而不增加其物理占用空间。三星表示:“三星不断降低其NCF材料的厚度,实现了业界最小的芯片间隙(7微米),同时还消除了层间空隙。与HBM38H产品相比,这些努力使垂直密度提高了20%以上。”——

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三星开发业界首款36GB HBM3E存储芯片 12层堆叠

三星开发业界首款36GBHBM3E存储芯片12层堆叠三星电子存储产品规划执行副总裁YongcheolBae表示,业界AI服务供应商越来越需要更高容量的HBM,而我们开发的全新HBM3E12H产品正是为满足这一需求设计的。技术方面,三星HBM3E12H采用先进的热压非导电薄膜(TCNCF),使12层产品具有与8层HBM芯片相同的高度,以满足当前HBM封装要求。该技术预计将在未来带来更多优势,特别是更高层数堆叠方面,因为业界正在努力减轻芯片裸片变薄带来的翘曲问题。三星不断降低NCF材料的厚度,并实现了当前业界最小的芯片间隙(7微米),同时消除了层间空隙。与此前的HBM38H产品相比,新技术的进步使得垂直密度提高了20%以上。三星表示,TCNCF技术还能够通过在芯片之间使用不同大小的凸块,来改善HBM的热性能。在芯片键合层面,较小的凸块用于信号传输区域,而较大的凸块用于需要散热的区域;该方法还有助于提高产品产量。集微网了解到,英伟达目前的H200旗舰AI芯片宣布采用HBM3E存储,下一代B100预计将同样采用HBM3E,目前三大存储芯片巨头三星、SK海力士、美光均重点发力HBM。三星表示,HBM3E12H将成为未来最佳解决方案,并降低数据中心总成本(TCO)。性能方面,新产品与HBM38H相比,人工智能训练平均速度可提高34%,用于推理服务支持的用户数量最高可增加11.5倍以上。目前三星已开始向客户提供HBM3E12H样品,计划于今年上半年量产。...PC版:https://www.cnbeta.com.tw/articles/soft/1421103.htm手机版:https://m.cnbeta.com.tw/view/1421103.htm

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