ASML新EUV三雄抢买 台积电、三星设备最快2026到位

ASML新EUV三雄抢买 台积电、三星设备最快2026到位 媒体报道，ASML近期对外秀出High NA EUV光刻机设备，一台要价3.5亿欧元，大小等同于一台双层巴士，重量更高达150公吨，相较于两架空中巴士A320客机，装机时间推估需要六个月，并需要250个货箱、250名工程人员才能安装完成，不仅价格高昂又相当耗时。英特尔早在去年12月已先行拿下一台High NA EUV光刻机设备，不过，英特尔原预期将该光刻机设备导入在自家18A的先进制程量产，不过，日前英特尔CEO基辛格（Pat Gelsinger）宣布，不会在18A制程采用High NA EUV量产，代表暂时延后采用High NA EUV光刻机设备。至于台积电、三星等晶圆代工大厂在High NA EUV设备机器采购上，脚步则慢于英特尔。业界指出，由于High NA EUV光刻机价格是当前EUV光刻机的两倍，代表生产成本将大幅增加，由于明年即将量产的2纳米晶圆售价仍未大幅增加，成为台积电、三星不急于导入High NA EUV光刻机台的关键。业界人士推测，台积电预计最快在1.4纳米（A14）才导入High NA EUV光刻机台，代表2025年才可望有采购设备的消息传出，若按照台积电先前对外释出的1.4纳米量产时间将落在2027年至2028年计划下，台积电的High NA EUV光刻机台交货时间可能落在2026年开始陆续交机。不过，可以确定的是，ASML的High NA EUV光刻机台已成为英特尔、台积电及三星等晶圆制造大厂进军2纳米以下先进制程的必备武器，仅是大量采用的时间先后顺序差别。事实上，进入7纳米以下后，台积电就开始导入EUV光刻机设备，原因在于光罩曝光层数大幅增加，在至少20层以上的重复光刻需求下，孔径重复对准的精准度要求愈来愈高，让EUV光刻机成为必备设备，不仅提高良率，也能降低生产成本。 ... PC版： 手机版：

传台积电A16 1.6nm制程不会采用High-NA EUV光刻机

传台积电A16 1.6nm制程不会采用High-NA EUV光刻机 访问：NordVPN 立减 75% + 外加 3 个月时长 另有NordPass密码管理器 据台湾业界消息，台积电并没有为A16制程准备High-NA（高数值孔径）EUV光刻机，而是准备采用现有EUV光刻机生产。相比之下，英特尔、三星都将在这一节点使用最新的High-NA EUV光刻机。关于背面供电技术，英特尔原本计划在20A（2nm）制程导入，称其为“Power Via”，但后来决定推迟至14A制程采用。三星同样开发了类似的背面供电技术BSPDN，根据早些时候消息，三星代工部门首席技术官Jung Ki-tae曾宣布将于2027年将背面供电技术用于1.4nm制程。目前英特尔已经收到了ASML首台High-NA EUV光刻机，并完成组装。业界认为，台积电选择在这时推出A16制程，给英特尔与三星带来了竞争压力。虽然英特尔在High-NA EUV设备上抢先一步，但能否赶上台积电的商业化进度还有待观察。台积电决定在A16制程沿用常规EUV光刻机，也展现了其技术实力，可以在不采用最新设备的情况下，将现有EUV设备的分辨率推进到1.3nm以下。事实上，去年台积电就成功通过调整光刻胶材料、光掩模制程等方式，在提升先进制程的临界尺寸与图形精度的同时，还降低了缺陷密度。台湾分析师表示，台积电、英特尔、三星之间的竞争将进一步刺激对EUV光刻机的需求，尤其是独家供应商ASML。考虑到High-NA EUV设备产能有限，如何在三大晶圆代工巨头之间分配，势必成为一大挑战。 ... PC版： 手机版：

【ASML：将获台积电“大量”2纳米相关订单，年内向台积电和英特尔交付High-NA EUV光刻机】

【ASML：将获台积电“大量”2纳米相关订单，年内向台积电和英特尔交付High-NA EUV光刻机】 据媒体报道，ASML首席财务官罗杰·达森（Roger Dassen）称，将于第二、三季度开始获得台积电“大量”（significant）2纳米相关订单。此外，达森最近还在电话会议中表示，台积电和英特尔年内将获得ASML的高数值孔径极紫外（High-NA EUV）光刻机。（界面）

向ASML压价、对英伟达涨价 台积电美股创历史新高

向ASML压价、对英伟达涨价 台积电美股创历史新高 根据公司发言人Monique Mols所述，ASML的首席财务官Roger Dassen在最近的一次电话会议中告诉分析师，ASML的两大客户台积电和英特尔公司将在今年年底前获得这款最新的EUV。英特尔已经订购了最新的高数值孔径极紫外EUV，并于去年12月底将首台机器运往俄勒冈的一家工厂。目前，尚不清楚台积电作为ASML最大的EUV客户何时会收到设备。台积电的一位代表表示，公司与供应商紧密合作，但拒绝进一步置评。据悉，ASML的最新光刻机可以在半导体上印刻出仅8纳米厚的线条，比上一代小1.7倍，将用于生产支持人工智能应用和先进消费电子产品的芯片。这些机器每台售价3.5亿欧元（3.8亿美元），重达两架空中客车A320的重量。ASML是全球唯一一家制造极紫外线光刻技术的公司，其产品需求是衡量该行业发展轨迹的试金石。不过，台积电对最新EUV的价格表示担忧。“我喜欢高数值孔径EUV的功能，但我不喜欢它的价格，”台积电高级副总裁张晓强在5月份于阿姆斯特丹表示。他说，台积电计划在2026年底推出的所谓A16节点制程技术，不需要使用ASML最新的高数值孔径EUV，可以继续依赖台积电的旧款极紫外线设备。尽管如此，台积电一直是ASML高数值孔径EUV项目的积极参与者。不少分析师表示，预计台积电将在2028年的A14节点制程技术中使用高数值孔径EUV。ASML仍然认为，2025年该公司的营收可能会在指引范围的高端，分析师在与Dassen通话后表示。分析师说，预计ASML在今年剩余三个季度的平均订单金额将约为57亿欧元（约合61.56亿美元），推动2025年的销售额达到400亿欧元（约合432亿美元）。周三，台积电美股盘初大涨，股价一度触及163.25美元，创历史新高，盘中最高涨超7%。该股今年迄今已经上涨60%。此外，台积电周二召开股东大会表示，AI需求比一年前乐观，随着AI的应用和芯片对公司提出更高要求，台积电对未来的增长充满信心。股东大会之后，台积电新任董事长魏哲家暗示，他正在考虑提高公司人工智能芯片代工服务的价格。他还表示，他已经与英伟达首席执行官黄仁勋讨论了这个问题。“我确实向英伟达的CEO黄仁勋抱怨过，他的产品太贵了。我认为这些产品确实非常有价值，但我也在考虑展示我们的价值。”目前，台积电是英伟达最先进的AI训练芯片（包括最新的Blackwell系列）的唯一生产合作伙伴。鉴于英伟达芯片的价格以及台积电在其生产中的重要角色，魏哲家表示，调涨生产费用再正常不过，“任何在家里的人都能想出这个策略。” ... PC版： 手机版：

阿斯麦向客户交付第二台 High NA EUV 光刻机，买家身份成谜

阿斯麦向客户交付第二台 High NA EUV 光刻机，买家身份成谜 然而，ASML 对买家身份讳莫如深，只能猜测其身份，路透社指出英特尔、台积电和三星都是潜在客户。事实上，英特尔已经购买了首台高数值孔径 EUV 光刻机，用于其即将推出的 14A 制程节点。正如 ASML 在提交给美国证券交易委员会的文件（第 13 页）中提到的，英特尔在 2024 年初于其位于俄勒冈州希尔斯伯勒的工厂接收了首台 TWINSCAN EXE:5200 系统。台积电和三星也已经确认有意采用 ASML 的高数值孔径 EUV 光刻机。

台积电称无需 ASML 的 High-NA EUV 即可实现下一代 A16 工艺节点

台积电称无需 ASML 的 High-NA EUV 即可实现下一代 A16 工艺节点 台积电高管周二表示，不一定需要使用 ASML 下一代 High NA EUV 机器，用于即将推出的芯片制造技术 A16，该技术正在开发中，预计于 2027 年推出。High NA 光刻工具有望帮助将芯片设计缩小三分之二，但芯片制造商必须权衡这一优势与更高的成本，以及 ASML 的旧技术是否可能更可靠、更好。每台 High NA EUV 工具的成本预计超过 3.5 亿欧元，而 ASML 常规 EUV 机器的成本则为 2 亿欧元。台积电是全球最大的合同芯片制造商，也是 ASML 常规 EUV 机器的最大用户。而另一方面，英特尔则已经打包预定了 ASML 今年所有的 High NA 设备出货量。