ASML:EUV技术领域不会面临中国公司的竞争

ASML:EUV技术领域不会面临中国公司的竞争 该消息推动ASML股价大涨9.52%,收盘股价1041.34美元,创下历史新高,总市值突破4096.86亿美元,成为了欧洲第二大市值的上市公司。Jefferies的报告指出,ASML预测其设备的市场需求有望一路走强至2026年,这主要是受益于各国政府推动的芯片制造本地化策略,通过补贴当地的晶圆厂建设,以提升自身的芯片制造能力。虽然2024年第一季度,ASML实现净销售额52.90亿欧元,同比下降21%。但是Jefferies证券认为,ASML 2024年二季度到四季度的平均订单额可能会达到57亿欧元左右,有望推动其2025年营收上探至400亿欧元。ASML此前就曾将其2025年营收目标设定在300~400亿欧元。Jefferies证券的报告还预测,台积电预计将在2024年某个时候就会收到ASML最新的High NA EUV(高数值孔径极紫外光)光刻机。ASML的标准EUV光刻机可以打印13.5nm的线宽,而新的High NA EUV光刻机则是可以通过打印8nm线宽来创建更小的晶体管,即可以用于2nm以下的制程工艺制造,并且晶圆生产速度已经达到了每小时400至500片晶圆,是当前标准EUV每小时200片晶圆的2-2.5倍的速度。不过,High NA EUV光刻机的价格也是相当的昂贵,一台要价超过3.5亿欧元。台积电业务开发资深副总裁张晓强(Kevin Zhang)5月14日在阿姆斯特丹举行的一场会议上就曾公开表示,ASML High NA EUV订价太过高昂,台积电预计于2026年下半量产的A16(1.6nm)制程,也不一定需用到High NA EUV光刻机。他说,这要看公司能取得的最佳经济与技术平衡而定,A16制程或许会采用、但不确定。“我喜欢这项技术、但不喜欢高昂的价格。”目前最为积极引入High NA EUV光刻机则是英特尔,其是第一家订购并完成交付安装的晶圆制造商,目前英特尔已经开始在其美国俄勒冈州最先进的技术开发基地将High NA EUV光刻机用于其Intel 18A工艺的测试,以积累相关经验,后续将会被用于Intel 14A的量产。有报道称,ASML已接获数十台High NA EUV光刻机的订单,其中大部分被英特尔预定,此外三星、台积电、SK海力士、美光也有订购。对于ASML所面临的潜在竞争问题,Jefferies证券的报告称,由于技术本身和生态系统的复杂性,ASML 认为“在可预见的未来”,其在 EUV 技术领域不会面临来自中国光刻设备公司 SMEE或HW的竞争。根据资料显示,ASML先进的标准型EUV光刻机就拥有超过10万个零件,涉及到上游5000多家供应商。这些零部件极为复杂,对误差和稳定性的要求极高,并且这些零件几乎都是定制的,90%零件都采用的是世界上最先进技术,85%的零部件是和供应链共同研发,甚至一些接口都要工程师用高精度机械进行打磨,尺寸调整次数更可能高达百万次以上。可以说,EUV光刻机已经是所有半导体制造设备中技术含量最高的设备,其中包括上万种精密零部件,而且结合了光学、流体力学、表面物理与化学、精密仪器、自动化、高分子物理与化学、软件、机械、图像识别等多个领域的尖端知识。目前全世界没有一家企业,甚至可以说没有一个国家可以独立完成EUV光刻机的完整制造。相对于标准的0.33 NA(数值孔径) EUV光刻机来说,配备0.55 NA透镜的High NA EUV光刻机技术含量更高,系统设计也更为复杂。比如High NA EUV光刻机会比现有的EUV光刻机更为耗电,从1.5兆瓦增加到2兆瓦,主要原因是因为光源问题,ASML甚至还使用液冷铜线为其供电。High NA EUV光刻机其各类组件需要250个单独的板条箱中运输,其中包括13 个大型集装箱,组装后的High-NA EUV光刻机将比双层卡车还要大。目前ASML仍然是全球唯一的EUV光刻机供应商,虽然老牌的光刻机厂商日本的尼康和佳能仍在发展光刻机业务,但是也仅止步于DUV,在EUV方面依然是无能为力。不过,目前High NA EUV光刻机的发展已经接近当前技术的极限,下一代的0.75 NA的Hyper NA EUV光刻机理论上是可以实现,但是会面临更多更复杂的技术问题,同时成本也更为惊人。ASML的前首席技术官Martin van den Brink就曾表示,Hyper NA可能将是最后一个NA,而且不一定能真正投入生产,这意味经过数十年的光刻技术创新,我们可能会走到当前半导体光刻技术之路的尽头。即使Hyper NA能够实现,但是如果采用Hyper NA技术的制造成本增长速度和目前High NA EUV技术一样,那么经济层面几乎是不可行的。显然,在ASML现有光刻机技术路线即将走向尽头的背景之下,对于中国厂商来说在现有技术路线对于ASML之间的差距可能将不会继续加速扩大,这有利于厂商的技术追赶。但是在EUV技术路线发展受欧美限制,且该技术路线前景灰暗的情况下,中国厂商是持续投入资源突破现有限制进行技术跟随,还是考虑投入资源另辟蹊径寻找新的技术路径?比如佳能去年就推出了面向先进制程制造的纳米压印设备,但该技术路线能否成功还有待市场检验。 ... PC版: 手机版:

相关推荐

封面图片

ASML 正在开发 Hyper-NA EUV 光刻机

ASML 正在开发 Hyper-NA EUV 光刻机 Van den Brink进一步强调了Hyper-NA EUV工具的重要性,指出它能够简化复杂的双重图案工艺,降低生产难度。他解释说,这种高分辨率工具的可用性对于半导体制造行业至关重要。 ASML 正在规划 0.77 NA 的 EUV 光刻机 ASML首席技术官Martin van den Brink在ASML 2023年年度报告中写道:“NA高于0.7的Hyper-NA无疑是一个机会,从2030年左右开始,这种机会将变得更加明显。”“它可能与Logic最相关,并且需要比“高NA EUV”双图案化更实惠,但它也可能是DRAM的一个机会。对我们来说,关键是Hyper-NA正在推动我们的整体EUV能力平台,以改善成本和交货时间。” 台积电 “冷落” High-NA EUV 光刻机启示录 尤其是在当下大陆在EUV光刻机获取全面受阻的情况下,李弈建议,台积电通过深入挖掘现有EUV光刻机的潜力,可支撑未来的1.6nm工艺,而大陆代工业如何借助DUV光刻机向7nm乃至下一步5nm制程发起冲刺应当有希望,应着力在光刻胶、光罩、多重曝光技术等领域持续创新突破,以全面提升利用DUV实现更先进制程的可能性。

封面图片

ASML High NA EUV光刻机晶圆制造速度提升150% 可打印8nm线宽

ASML High NA EUV光刻机晶圆制造速度提升150% 可打印8nm线宽 根据ASML前总裁兼首席技术官、现任公司顾问的Martin van den Brink的说法,新的High NA EUV光刻机晶圆生产速度达到了每小时400至500片晶圆,是当前标准EUV每小时200片晶圆的2-2.5倍的速度,即提升了100%至150%,将进一步提升产能,并降低成本。现阶段经过进一步调整,ASML已经可用其试验性质High-NA EUV光刻机打印生产8nm线宽,这是的新纪录,这打破了该公司在4月初当时创下的记录。当时ASML宣布,已使用位于ASML荷兰总部与imec联合实验室的试验型High-NA EUV光刻机打印了10nm线宽。就发展路线来说,ASML的标准EUV光刻机可以打印13.5nm的线宽,而新的High-NA EUV光刻机则是可以通过打印8nm线宽来创建更小的晶体管。ASML现在已经证明其设备可以满足其基本规格。Martin van den Brink强调,ASML当前已经取得了进展,能够在整个打印线宽作业上将其低至8奈米记录,并进行校正,而且还具有一定程度的重叠覆盖。因此,ASML对High NA EUV光刻机的发展充满信心,预计未来将能够在突破其极限。而除了ASML自己在进行High NA EUV光刻机的测试之外,目前唯一安装完成High NA EUV光刻机的英特尔,也在美国俄勒冈州的D1X工厂投入测试工作。预计将在Intel 18A节点制程上进行技术的研发与训练工作,之后再将其投入到Intel 14A节点制程的大量生产当中。Martin van den Brink指出,ASML已经可以开发更新一代的Hyper-NA EUV光刻机了,以进一步扩展其High-NA EUV光刻机的潜在路线图。 ... PC版: 手机版:

封面图片

ASML 首次公开展示 High NA EUV 光刻机

ASML 首次公开展示 High NA EUV 光刻机 2月10日,ASML 在荷兰总部向媒体展示新一代 High NA EUV 光刻机 Twinscan EXE:5000。 这台光刻机尺寸等同于一台双层巴士;重达150吨,相当于两架空客A320客机;价值高达3.5亿欧元(约合27亿元人民币);全套系统需要250个货箱装运,需要250名工程人员、历时6个月才能安装完成,不仅价格高昂也相当耗时。 Twinscan EXE:5000 可以制造8nm线宽电路,从而实现晶体管密度比前一代提高至2.9倍。

封面图片

ASML公布Hyper NA EUV光刻机 可量产0.2nm工艺

ASML公布Hyper NA EUV光刻机 可量产0.2nm工艺 该系列预计到2025年可以量产2nm,再往后就得加入多重曝光,预计到2027年能实现1.4nm的量产。High NA光刻机升级到了0.55,对应产品EXE系列,包括已有的5000、5200B,以及未来的5400、5600、5X00。它们将从2nm以下工艺起步,Intel首发就是14A 1.4nm,预计到2029年左右能过量产1nm,配合多重曝光可以在2033年前后做到0.5nm的量产,至少也能支持到0.7nm。接下来的Hyper NA光刻机预计将达到0.75甚至更高,2030年前后推出,对应产品命名为HXE系列。ASML预计,Hyper AN光刻机或许能做到0.2nm甚至更先进工艺的量产,但目前还不能完全肯定。值得一提的是,单个硅原子的直径约为0.1nm,但是上边提到的这些工艺节点,并不是真实的晶体管物理尺寸,只是一种等效说法,基于性能、能效一定比例的提升。比如说0.2nm工艺,实际的晶体管金属间距大约为16-12nm,之后将继续缩减到14-10nm。另外,Low/High/Hyper三种光刻机会共同使用单一的EUV平台,大量的模块都会彼此通用,从而大大降低研发、制造、部署成本。High NA光刻机的单台价格已经高达约3.5亿欧元,Hyper NA光刻机必然继续大幅涨价,而且越发逼近物理极限,所以无论技术还是成本角度,Hyper NA之后该怎么走,谁的心里都没数。微电子研究中心(IMEC)的项目总监Kurt Ronse就悲观地表示:“无法想象只有0.2nm尺寸的设备元件,只相当于两个原子宽度。或许到了某个时刻,现有的光刻技术必然终结。” ... PC版: 手机版:

封面图片

ASML新EUV三雄抢买 台积电、三星设备最快2026到位

ASML新EUV三雄抢买 台积电、三星设备最快2026到位 媒体报道,ASML近期对外秀出High NA EUV光刻机设备,一台要价3.5亿欧元,大小等同于一台双层巴士,重量更高达150公吨,相较于两架空中巴士A320客机,装机时间推估需要六个月,并需要250个货箱、250名工程人员才能安装完成,不仅价格高昂又相当耗时。英特尔早在去年12月已先行拿下一台High NA EUV光刻机设备,不过,英特尔原预期将该光刻机设备导入在自家18A的先进制程量产,不过,日前英特尔CEO基辛格(Pat Gelsinger)宣布,不会在18A制程采用High NA EUV量产,代表暂时延后采用High NA EUV光刻机设备。至于台积电、三星等晶圆代工大厂在High NA EUV设备机器采购上,脚步则慢于英特尔。业界指出,由于High NA EUV光刻机价格是当前EUV光刻机的两倍,代表生产成本将大幅增加,由于明年即将量产的2纳米晶圆售价仍未大幅增加,成为台积电、三星不急于导入High NA EUV光刻机台的关键。业界人士推测,台积电预计最快在1.4纳米(A14)才导入High NA EUV光刻机台,代表2025年才可望有采购设备的消息传出,若按照台积电先前对外释出的1.4纳米量产时间将落在2027年至2028年计划下,台积电的High NA EUV光刻机台交货时间可能落在2026年开始陆续交机。不过,可以确定的是,ASML的High NA EUV光刻机台已成为英特尔、台积电及三星等晶圆制造大厂进军2纳米以下先进制程的必备武器,仅是大量采用的时间先后顺序差别。事实上,进入7纳米以下后,台积电就开始导入EUV光刻机设备,原因在于光罩曝光层数大幅增加,在至少20层以上的重复光刻需求下,孔径重复对准的精准度要求愈来愈高,让EUV光刻机成为必备设备,不仅提高良率,也能降低生产成本。 ... PC版: 手机版:

封面图片

ASML已交付第三代EUV 可用于制造2nm芯片

ASML已交付第三代EUV 可用于制造2nm芯片 在ASML看来,Twinscan NXE:3800E代表了Low-NA EUV光刻技术在性能(每小时处理的晶圆数量)和精度方面的又一次飞跃。新的光刻设备可实现每小时处理195片晶圆的处理速度,相比Twinscan NXE:3600D的160片大概提升了22%,将来有可能提高至220片。此外,新工具还提供了小于1.1nm的晶圆对准精度。即便用于4/5nm芯片的生产,Twinscan NXE:3800E也能提升效率,让制造商可以提高芯片生产的经济性,实现更为高效且更具成本效益的芯片生产。更为重要的一点,是Twinscan NXE:3800E对于制造2nm芯片和后续需要双重曝光的制造技术有更好的效果,精度的提升会让3nm以下的制程节点受益。Twinscan NXE:3800E光刻机的价格并不便宜,机器的复杂性和功能是以巨大的成本为代价,每台大概在1.8亿美元。不过比起新一代High-NA EUV光刻机的报价,显然还是要低很多。此前有报道称,业界首款采用High-NA EUV光刻技术的TWINSCAN EXE:5200光刻机报价达到了3.8亿美元。ASML还会继续推进Low-NA EUV光刻设备的开发,接下来将带来新款Twinscan NXE:4000F,计划在2026年发布,这凸显了ASML对EUV制造技术的承诺。 ... PC版: 手机版:

🔍 发送关键词来寻找群组、频道或视频。

启动SOSO机器人