荷兰政府已经对华禁售该国最先进的半导体设备极深紫外光刻机。但美国鼓励荷兰同样限制深紫外线光刻机这一稍欠先进的系统。

荷兰政府已经对华禁售该国最先进的半导体设备极深紫外光刻机。但美国鼓励荷兰同样限制深紫外线光刻机这一稍欠先进的系统。 两国政府面临的问题还包括他们是否像美国那样，拥有颁布限制措施的法律权威，以及关于限制哪些技术的广泛专业讨论。

阿斯麦今年将向台积电和三星交付价值3.8亿美元的高数值孔径极紫外光刻机

阿斯麦今年将向台积电和三星交付价值3.8亿美元的高数值孔径极紫外光刻机 总部位于荷兰的阿斯麦今年将向台积电和三星电子出货其最新的芯片制造设备。据该公司发言人称，阿斯麦首席财务官罗杰·达森在最近的电话会议上告诉分析师，阿斯麦的三大客户台积电、英特尔和三星都将在今年年底前获得高数值孔径极紫外光刻机。英特尔已经订购了最新的高数值孔径极紫外光刻机，并于去年12月底送往俄勒冈州的制造工厂。目前尚不清楚阿斯麦最大的 EUV 客户台积电何时会收到这台设备。这家台湾芯片制造商的一位代表表示，该公司与供应商密切合作，并拒绝进一步置评。

俄罗斯完成制造首台 350 纳米制程的光刻机

俄罗斯完成制造首台 350 纳米制程的光刻机 俄罗斯首台光刻机已经制造完成并正在进行测试，俄罗斯联邦工业和贸易部副部长 Vasily Shpak 指出，该设备可支持生产最终到达350纳米工艺的芯片。 Shpak 告诉媒体：“我们组装并制造了第一台国产光刻机。作为泽廖诺格勒技术生产线的一部分，目前正在对其进行测试。”俄罗斯接下来的目标是在2026年制造可以支持130nm工艺的光刻机。

ASML公布下一代"Hyper-NA"极紫外光刻技术发展路线图

ASML公布下一代"Hyper-NA"极紫外光刻技术发展路线图 Hyper-NA工具仍处于早期研究阶段，它将把数值孔径从High-NA的0.55提高到0.75，使芯片的晶体管密度在2030年代初超过High-NA的预计极限。更高的数值孔径可减少对增加复杂性和成本的多重图案技术的依赖。Hyper-NA 为商业化带来了自身的挑战。主要障碍包括降低成像对比度的光偏振效应，这就需要偏振滤光片来降低光吞吐量。为了保持分辨率，抗蚀材料可能还需要变得更薄。虽然台积电等领先的超紫外芯片制造商可以利用现有的 0.33 NA 超紫外工具，通过多图案化技术将扩展范围再扩大几个节点，但英特尔已采用 0.55 高-NA 来避免这些复杂性。但是，随着High-NA达到物理极限，Hyper-NA很可能在本十年晚些时候成为整个行业的必备技术。除了 Hyper-NA 之外，除了昂贵的多光束电子光刻技术之外，目前几乎没有其他可供选择的图案化解决方案，而多光束电子光刻技术的吞吐量又比不上 EUV 光刻技术。为了继续经典的扩展，业界可能需要最终过渡到与硅相比具有更优越电子迁移率特性的新型沟道材料，这就需要新的沉积和蚀刻能力。 ... PC版： 手机版：

据塔斯社报道，俄罗斯首台光刻机已经制造完成并正在进行测试。俄罗斯联邦工业和贸易部副部长表示，可确保生产 350 纳米工艺的芯片。

据塔斯社报道，俄罗斯首台光刻机已经制造完成并正在进行测试。俄罗斯联邦工业和贸易部副部长表示，可确保生产 350 纳米工艺的芯片。俄罗斯接下来的目标是在 2026 年制造可以支持 130nm 工艺的光刻机。

俄罗斯首台光刻机已经制造完成并正在进行测试 可生产350纳米工艺芯片

俄罗斯首台光刻机已经制造完成并正在进行测试 可生产350纳米工艺芯片 什帕克告诉媒体：“我们组装并制造了第一台国产光刻机。作为泽廖诺格勒技术生产线的一部分，目前正在对其进行测试。”在全球范围内，这种复杂程度的设备由几家主要公司组装，其中最大的是荷兰的 ASML 公司以及佳能和尼康。目前，台积电和三星利用ASML的EUV光刻技术，已经能够生产出精细至3纳米甚至2纳米的芯片。尽管350纳米的芯片技术相较之下显得落后，但它在汽车、能源和电信等诸多行业中仍有着应用价值。对于受到美西方严厉制裁的俄罗斯半导体产业而言，这一进展无疑是一则喜讯。这意味着，俄罗斯在自主发展半导体技术的道路上取得了突破，有望减少对外部技术的依赖，提升国内产业的自主性和竞争力。 ... PC版： 手机版：