三星公布芯片计划:3年内量产2纳米 5年内超越台积电

三星公布芯片计划:3年内量产2纳米5年内超越台积电三星代工事业部总裁SiyoungChoi表示:“目前我们正在加大投入准备工作,为客户提供功率半导体、微控制器、先进的自动驾驶人工智能芯片等多种解决方案。”三星强调,其将在2026年完成车用2nm芯片的量产;同时还透露了其开发业界首款5nmeMRAM的计划。自2019年成为业内首家量产基于28nm工艺eMRAM的公司以来,三星计划2024年量产14nm车用eMRAM,然后在2026年和2027年量产8nm和5nm车用eMRAM。三星官方表示,8nmeMRAM与14nm相比,预计集成度将提高30%,速度提高33%。此外三星还计划到2025年将目前的130mm车用BCD工艺提升至90nm,与130nm相比,90nm的BCD工艺将使芯片面积减少20%。根据此前DigiTimes的报道,三星半导体和设备解决方案(DS)部门负责人KyeHyunKyung曾公开表示,要在未来5年内超越台积电和其它行业巨头。而台积电总裁魏哲家在昨天的法人说明会上披露,台积电有望在2025年量产2nm工艺芯片。...PC版:https://www.cnbeta.com.tw/articles/soft/1391229.htm手机版:https://m.cnbeta.com.tw/view/1391229.htm

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台积电3nm制程工艺计划29日开始商业化量产较三星电子晚近半年作为台积电旗下6座12英寸超大晶圆厂之一的晶圆十八厂,一期是在2018年的1月份正式动工建设的,建成之后用于5nm制程工艺的量产,因而这一晶圆厂也是台积电5nm制程工艺的主要生产基地。而随着3nm制程工艺的商业化量产,未来一段时间晶圆十八厂就将是台积电先进制程工艺的主要生产基地,也将是他们主要的营收来源。台积电的3nm制程工艺在本月29日开始商业化量产,也就意味着他们的这一先进制程工艺,在量产的时间上较竞争对手三星电子晚了近半年。在3nm制程工艺上,台积电和三星电子是不同的路线,三星电子率先采用全环绕栅极晶体管架构,台积电则是继续采用鳍式场效应晶体管(FinFET)架构。三星电子在6月30日,就已开始采用3nm制程工艺为相关的客户代工晶圆,首批产品在7月25日就已出货。相关文章:台积电将以3纳米量产仪式回击岛内批评声音...PC版:https://www.cnbeta.com.tw/articles/soft/1336337.htm手机版:https://m.cnbeta.com.tw/view/1336337.htm

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